• 薄膜デバイス研究室へようこそ

    東京工芸大学 工学部 電子機械学科

    薄膜デバイス研究室(旧電子要素研究室)のOB会を考えています。

    名簿が存在しないためまずはページ下部の連絡先までご連絡ください。

    スパッタ装置及び蒸着装置を駆使して最先端の薄膜堆積技術に関する研究を行っております。

    「共同研究」、「試料を試作したい」、「評価装置だけ使用したい」等、お気軽にご連絡下さい。

  • Members

    私たちのチームを紹介します!

    助教 / Assistant Professor

    ・安田洋司 博士(工学)  Yoji Yasuda, Ph.D (in eng.)

    東京工芸大学 工学部 電子機械学科 助教
     及び、東京工芸大学大学院 工学研究科 電子情報工学専攻 助教

     

    略歴 東京工芸大学大学院工学研究科修了後、株式会社フジクラで光ファイバケーブルの開発・設計に従事した後、東京工芸大学工学部システム電子情報学科の助手として赴任。博士号取得し、神奈川県庁入庁、職業訓練指導員として4年間職業能力開発行政に携わった後東京工芸大学工学部電子機械学科に着任、現在に至る。

    名誉教授 / Emeritus Professor

    ・星陽一 工学博士  Yoichi Hoshi, Ph.D (in eng.)

    東京工芸大学 工学部 電子機械学科 名誉教授

     

    1974年 新潟大学 工学部 電子工学科 卒業
    1976年 東京工業大学大学院 修士課程 電気工学専攻 修了, 同年 東京工業大学工学部 助手
    1984年 東京工芸大学 工学部 電子工学科 講師
    1989年 同助教授、1999年同教授

    2017年定年により退官

    2018年度卒研生

    B4

    飯島 紹
    小俣 陽暉
    高橋 歩夢
    寺田 潤平
    橋本 監
    松本 和希

    森  昇一

    2017年度卒研生

    B4

    武田

    中嶋

    フィン

  • Themes

    ~研究紹介~

    スパッタ法による薄膜作製技術の開発

    -反応性スパッタ法によるTiO2薄膜の高速成膜技術の開発
    -斜め入射スパッタ法による高機能光触媒薄膜作製技術の開発
    -低ダメージスパッタ法による有機EL素子の上部電極膜作製技術の開発

    -対向ターゲットスパッタ法によるガスクロミックWO3薄膜の高速成膜技術の開発

    各種薄膜作製への応用

    -低ダメージスパッタ法の各種機能性薄膜作製への応用
    -酸素イオンアシスト蒸着法の光触媒薄膜作製への応用

  • Researches

    ~研究業績~

    2019年度の主な研究業績

    発表論文

    1)Reactive Sputter Deposition of WO3 Films by Using Two Deposition

    Methods, Yoji Yasuda, Yoichi Hoshi, Shin-ichi Kobayashi, Takayuki Uchida, Yutaka Sawada, Meihan Wang, and Hao Lei, Journal of Vacuum Science Technology A, Vol.37 3                

    2018年度の主な研究業績

    発表論文

    1)Fusion of Tactile and Force display-- Concept and each display development –, Junji Sone, Yasuyoshi Matsumoto, Ryo Sekiya, Katsuhiko Ooizumi, Yoji Yasuda, Yoichi Hoshi, Shoichi Hasegawa, VRCAI ’18, December, 2018, Tokyo, Japan

     

    学会発表

    国際学会

    1)High rate Reactive Sputter-deposition of WO3 Films by using Two Different Deposition Methods [TF-TuP6], Yoji Yasuda, Yoichi Hoshi, Pacsurf2018, Hawaii(2018).

     

    国内学会
    1)シリコン系太陽電池正孔選択層向け酸化タングステンの低ダメージ堆積時における酸素分圧の影響 [19p-PA5-6]

     安田 洋司1、宮島 晋介2、白取 優大2、星 陽一1 (1.東京工芸大工、2.東工大工)

     第79回応用物理学会秋季学術講演会 (9月)

    2)上部Al電極をスパッタ法で堆積した場合のAlq3膜のPL強度の変化 [18p-PA5-1]

     安田 洋司1、小林 信一1、内田 孝幸1、星 陽一1 (1.東京工芸大学工)

     第79回応用物理学会秋季学術講演会 (9月)

    3)シリコンヘテロ接合太陽電池正孔選択層応用へ向けた酸化タングステンの低ダメージ形成[20p-133-14]

     白取 優大1、安田 洋司2、星 陽一2、金 珍雨1、中田 和吉1、宮島 晋介1(1.東工大工、2.東京工芸大工)、

     第79回応用物理学会秋季学術講演会 9月

    4)MEMS 技術を用いた指触覚デバイスの設計と製作(第7 報)

     曽根順治,松本康義,大泉勝彦,安田洋司,星陽一

     第23回日本バーチャルリアリティ学会大会論文集 9月

    5)圧電型触覚提示デバイスの試作-2

     曽根順治,大泉勝彦,松本康義,安田洋司,星陽一

     第9回マイクロ・ナノ工学シンポジウム 10月

    6)シリコン系太陽電池向け酸化タングステン膜の表面処理による仕事関数制御

    安田 洋司1、寺田 潤平1、松本 和希1、内田 孝幸1、宮島 晋介2、白取 優大2、星 陽一1 (1.東京工芸大工、2.東工大工),

    第66回応用物理学会春季学術講演会[9p-PB6-5]  3月

     

    2017年度の主な研究業績

    学会発表

    国際学会

    1)Improvement of gasochromic properties of WO3 films by high rate reactive sputter-deposition on an inclined substrate
    2)Sputter-Deposition of Top Al Electrode Film for OLED Under Irradiation of Infrared Ray    ENG
    3)High rate reactive sputter-deposition of WO3 films with gasochromic properties    ENG
    4)Undoped Amorphous Tin Oxide Films Fabricated by Spray CVD    ENG

     

    学術講演会

    2017 有機EL素子の上部電極作製用スパッタ成膜プロセスの開発    学会発表(国内学会)
    2017 MEMS 技術を用いた指触覚デバイスの設計と製作    学会発表(国内学会)
    2017 対向スパッタによる圧電膜の成膜-2    学会発表(国内学会)
    2017 対向ターゲット式スパッタ法によるWO3膜の高速堆積    学会発表(国内学会)
    2017 上部Al電極膜を赤外線照射下でスパッタ堆積した有機EL素子    学会発表(国内学会)

    2016年度の主な研究業績

    学術講演会

    1)物理気相成長法による光触媒薄膜作成技術の開発    テクニカルショウヨコハマ2017 産学連携ワークショップ
    2)斜め入射堆積Ti薄膜の熱酸化による酸化チタン薄膜の作製II  応用物理学会 
    3)上部Al電極作製時の基板温度上昇がOLEDの動作特性に与える影響  応用物理学会

    2013年度の主な研究業績

    発表論文

    [1] Y. Yasuda, M. Tobisaka, K. Kamikuri, and Y. Hoshi, “Effect of ion bombardment on low-temperature growth of TiO2thin films in DC reactive sputtering with two sputtering sources”, Surf. Coat. Technol., Vol.231 (2013) 439-442 doi:10.1016/j.surfcoat.2012.01.003

    [2] Y. Yasuda, N. Kitahara, and Y. Hoshi, “Glancing Angle Sputter Deposition of Titanium Dioxide Films for Photocatalytic Applications” ECS Transactions, 50 (48) 25-35 (2013), DOI: 10.1149/05048.0025ecst

    [3] Yoji Yasuda, Masayuki Tobisaka, Kento Kamikuri, Yoichi Hoshi, “Room temperature deposition of crystallized TiO2films by a reactive sputtering” Surface and Coatings Technology, Volume 231, 25 September 2013, Pages 439?442

    [4] Yoichi Hoshi, Yoiji Yasuda, and Naoto Kitahara , “Control of Nano-structure of Photocatalytic TiO2 Films by Oxygen Ion Assisted Glancing Angle Deposition” J. J. Appl. Phys., Vol.52 (2013)110124

    [5] Hao Lei, Meihan Wang, Yoichi Hoshi, Takayuki Uchida, Shinichi Kobayashi, Yutaka Sawada、“Comparative studies on damages to organic layer during the deposition of ITO films by various sputtering methods”, Applied Surface Science xxx (2013) xxx? xxx (http://dx.doi.org/10.1016/j.apsusc.2013.08.065)

    [6] 星陽一「TiO2膜の高速低温スパッタ成膜法」日本真空学会誌(解説論文)Vol. 57、No. 1 (2014) pp.9-15

     

    学会発表

    研究会

     1)星 陽一、小林信一、内田孝幸、清水英彦「スパッタ法による上部電極膜の作製が有機EL素子の動作特性に及ぼす影響」信学技報, vol. 113, no. 171, CPM2013-45, pp. 29-34, 2013年8月

     2)星 陽一 「対向ターゲット式スパッタ法とその磁性薄膜作製への応用」電気学会 マグネティクス研究会資料 MAG-13-127、pp.31-34 (招待講演)

     3)山田良隆、渥美剛、白木遼、以西雅章、安田洋司、星陽一「CuとFeを担持したTiO2スパッタ薄膜の光触媒特性の評価」電子情報通信学会、信学技報、CPM2013-17

     

    国際会議

     1)Y. Sawada, K. Cyubachi, Y. Seki, T. Suzuki, T. Nakamura, T. Uchida, Y. Hoshi, S. Seki, K. Yubuta and T. Shishido, “Tin Oxide Films Deposited by Spraying Tin 2-Ethylhexanoate.” TOEO, 13pP14(2013) (5月)

     2)Y. Hoshi, S. Kobayashi, T. Uchida, Y. Sawada and H. Shimizu, “Control of Work Function of ITO Anode Films in OLED”, TOEO, 13pP31 (2013) (5月)
     3)Y. Hoshi, Y. Yasuda, N. Kitahara and Y. Sawada, “Comparative Study in Glancing Angle Deposition of Photocatalytic TiO2Films by Sputtering and Oxygen Ion Assisted Evaporation Method”, TOEO 13pP44 (2013) (5月)

     

    学術講演会

     1)星陽一、「自己組織化によるナノ構造制御技術とその展望」、第74回応用物理学会秋季学術講演会、 [16p-D1-1](2013年9月16日)

     2)星陽一,安田洋司,北原直人「スパッタおよびイオンアシスト斜め入射堆積法によるTiO2膜の作製」第74回応用物理学会秋季学術講演会[19a-P3-27](2013年9月19日)  3)星陽一1,小林信一1,内田孝幸1,清水英彦2有機EL素子上部電極膜作製のためのスパッタ成膜法の検討」第74回応用物理学会秋季学術講演会、[19p-C7-1] (2013年9月19日)

     4)星 陽一、平井照通 、北原直人「酸素イオンアシスト斜め入射堆積法による光触媒用TiO2薄膜の構造制御Ⅱ」第57回日本学術会議材料工学連合講演会講演論文集 210、pp.54-55

     5)星陽一,平井照通,北原直人、「斜め入射堆積法により作製したTiO2膜の熱処理効果」、第61回応用物理学会春季学術講演会、17p-PG2-10(2014年3月)

     6) 手嶋里帆,柴崎正明,市川正人,星陽一,内田孝幸、「アルカリ金属ならびにスパッタプロセスを用いずに作製した透明有機EL素子」第61回応用物理学会春季学術講演会、19p-E3-4 (2014年3月)

    2012年度の主な研究業績

    発表論文

    [1] Y. Yasuda, K. Kamikuri, M. Tobisaka, and Y. Hoshi, “Low-temperature deposition of crystallized TiO2 thin films”, Thin Solid Films, 520(10), 3736-3740 (2012).

    [2] Y. Yasuda, H. Lei, and Y. Hoshi, “New oxygen radical source using selective sputtering of oxygen atoms for high rate deposition of TiO2 films”, Journal of Vacuum Science & Technology, A 30, 061503 (2012).

    [3] Yutaka Sawada1,a, Hayato Ohkubo1, Yoshiyuki Seki1, Keh-moh Lin2,b, Kazuyuki Sano1, Shigeyuki Seki3,c, Takayuki Uchida1 and Yoichi Hoshi, “Zinc Oxide Films Doped with Aluminum, Gallium or Tin Prepared by Dip Coating Process Using Ethanol Solution.” Key Engineering Materials Vols. 512-515 (2012) pp 1503-1506

    [4] Meihan Wang, Hao Lei, Yoshiyuki Seki, Shigeyuki Seki, Yutaka Sawada, Yoichi Hoshi, Shaohong Wang, Lixian Sun, “Thermal crystallization kinetic and electrical properties of partly crystallizedamorphous indium oxide thin films sputtering deposited in the presence or the absence of water vapor Journal of Thermal Analysis and Calorimetry, 111, (2) (2013) 1457-1461 DOI: 10.1007/s10973-012-2526-9)

    [5] Masaaki Isai, Ikuta Nakamura, Takanori Sato, and Yoichi Hoshi, “Stabilized Pt deposition on the TiO2 films and their photocatalytic properties” Trans. Mat.Res.Soc. Japan, 38[1]11-15(2013)

     

    国際会議発表

    [1] Yoichi Hoshi, Shin-ichi Kobayashi, Takayuki Uchida,Hidehiko Shimizu, “CHANGES IN CARRIER INJECTION PROPERTIES OF OLEDs BY SPUTTER-DEPOSITION OF Al ELECTRODE” 20th Annual International Conference on Composites or Nano Engineering(ICCE-20) (2012, Beijing, July)

    [2] Y. Yasuda, H. Lei and Y. Hoshi, “New oxygen radical source using selective sputtering of oxygen atoms for the high rate deposition of TiO2 films”, IUMRS-ICEM2012, Yokohama (Japan), B-3-P26-005 (September, 2012).

    [3] Y. Yasuda, N. Kitahara, and Y. Hoshi, “Glancing angle sputter-deposition of titanium dioxide films with rotating substrate holder for photocatalytic application”, PRIME2011, Hawaii (USA), 93 (October, 2012).

    [4] T. Matsuzaki, Y. Seki, Y. Yasuda, Y. Sawada, Y. Hoshi, and T. Uchida, “Luminance Enhancements in OLEDs Using a TiO2 Electron Injection Buffer”, International Display Workshop in conjunction with Asia Display 2012, Kyoto (Japan), OLEDp-8 (December, 2012).

     

    口頭発表

    第73回応用物理学会学術講演会 (愛媛大学9月11日―9月14日)

    1)安田洋司,北原直人,星 陽一、「2スパッタ源反応性スパッタ法による光触媒用TiO2薄膜の斜め入射堆積II」第73回応用物理学会学術講演会、11a-PA1-18(2012年9月)

    2)星 陽一1,小林信一1,内田孝幸1,清水英彦、「ITO陽極表面の酸素プラズマ処理条件による有機EL素子の動作特性の変化」第73回応用物理学会学術講演会、13p-C13-6(2012年9月)

    3)安田洋司、北原直人、星陽一「2スパッタ源反応性スパッタによるTiO2薄膜の斜め入射堆積」 第56回材料工学連合講演会 433 京都テルサ2012年10月30日 

    4)安田洋司・◎星 陽一 「酸素イオンアシスト斜め入射蒸着法によるTiO2膜の微細構造制御」 2013年電子情報通信学会総合大会 C-6-5 (2013年3月)

    5)星 陽一・内田孝幸・小林信一(東京工芸大)・清水英彦 「有機EL素子上部電極作製のための低ダメージスパッタ堆積法の検討」2013年電子情報通信学会総合大会CS-4-1 (2013年3月)

    6)山田良隆1,以西雅章1,渥美 剛1,白木 遼1,安田洋司2,星 陽一「Cu とFe を担持したTiO2薄膜の光触媒特性の評価」 第60 回応用物理学会春季学術講演会、28p-F2 -12(2013年3月)

    2011年度の主な研究業績

    発表論文

    1)Masaaki Isai, Ikuta Nakamura, Tatsuya Ito, and Yoichi Hoshi, “Prepareation of Pt-deposited TiO2films and evaluation of photocatalytic properties”, Transactions of the Material Research Society of Japan, 36 [2] 261-264 (2011)

    2)Y. Seki, Y. Sawada *, M.H. Wang, H. Lei, Y. Hoshi, T. Uchida, “Electrical properties of tin-doped indium oxide thin films prepared by a dip coating”, Ceramics International, 38S (2012) S613?S616

    3)Md. Zaved Hossain Khan, Takuya Nakanishi, Shigeki Kuroiwa, Yoichi Hoshi, Tetsuya Osaka, “Effect of surface roughness and surface modification of indium tin oxide electrode on its potential response to tryptophan” Electrochimica Acta 56 (2011) 8657? 8661

     

    国際会議発表

    1)Yoji Yasuda, Masayuki Tobisaka, Kento Kamikuri, Yoichi Hoshi, “Room temperature deposition of crystallized TiO2 films by a reactive sputtering” TACT 2011 International Thin Film Conference, F-052 (2011年11月) (ポスター賞1位受賞)

    2)Yoichi Hoshi, Youji Yasuda, Shin-ichi Kobayashi, Takayuki Uchida, Yutaka Sawada, †Hidehiko Shimizu, “Changes in carrier injection properties of OLED by the sputter-deposition of Al electrode” TACT 2011 International Thin Film Conference, C-061 (2011年11月)(ポスター賞2位受賞)

    3)Y. Seki, S. Seki, T. Arii, Y. Sawada, T. Uchida, Y. Hoshi, K. Yubuta, T. Shishido, Li-Xian SUN

    “Thermal Analysis of Dip-Coating Solution Prepared from Indium Diacetate Monohydorxide and 2-Aminoethanol to Form Indium Oxide Thin Films” 6th International & 8th Japan-China Joint Symposium on Calorimetry and Thermal Analysis, CATS2011, PA07, International House, Tokyo Metropolitan University, Tokyo, Japan, August 1-4, 2011 ポスター発表

    4)T. Suzuki, Y. Seki, Y. Sawada, T. Uchida, Y. Hoshi, Li-xian SUN

    “Thermal Crystallization of Amorphous Tin Oxide Thin Films Fabricated by Spray Chemical Vapor Deposition” 6th International & 8th Japan-China Joint Symposium on Calorimetry and Thermal Analysis, CATS2011, PA09, International House, Tokyo Metropolitan University, Tokyo, Japan, August 1-4, 2011 ポスター発表

    5)T. Nakamura, T. Suzuki, Y. Seki, Y. Sawada, T. Uchida, Y. Hoshi, S. Seki, K.M. Lin

    “Thermal Crystallization of Amorphous Aluminum-Doped Zinc Oxide Thin Films” 6th International & 8thJapan-China Joint Symposium on Calorimetry and Thermal Analysis, CATS2011, PA10, International House, Tokyo Metropolitan University, Tokyo, Japan, August 1-4, 2011 ポスター発表

    6)Y. Sawada, H. Ohkubo, Y. Seki, K. Lin, S. Seki, T. Uchida, Y. Hoshi

    “Zinc oxide films doped with aluminum, gallium or tin prepared by dip coating process using ethanol solution” The Seventh International Conference on High-Performance Ceramics, CICC-7, Xiamen, China, Nov. 4-11, 2011, C6-018口頭発表, abstract p 137

     

    国内学会:

    第72回応用物理学会学術講演会 (山形大学8月29日―9月1日)

    1)安田洋司,上栗賢人,飛坂真幸,星 陽一、「2スパッタ源反応性スパッタ法によるTiO2薄膜の低温結晶化促進法の検討II」、第72回応用物理学会学術講演会、31a-ZK-4 (2011年8月)

    2)植松紀行1,草木陽介1星 陽一1,小林信一1,内田孝幸1,清水英彦2「電極膜のスパッタ堆積が有機EL素子の動作特性に及ぼす影響」 第72回応用物理学会学術講演会、30a-Q-20 (2011年8月)

    3)草木陽介1,植松紀行1星 陽一1,小林信一1,内田孝幸1,清水英彦「電極膜のスパッタ堆積が有機EL素子のキャリア注入特性に及ぼす影響」 第72回応用物理学会学術講演会、30a-Q-20(2011年8月)

    4)安田 洋司*, 飛坂 真幸, 星 陽一 「2スパッタ源反応性スパッタ法による光触媒用TiO2薄膜の斜め入射堆積 」第59回応用物理学関係連合講演会、15a-GP3-26[2012年3月]

    5)星陽一、植松紀行、草木陽介、小林信一、内田孝幸、清水英彦「電極膜のスパッタ堆積が有機EL素子の動作特性に及ぼす影響」電気化学会第79回大会、G03[2012年3月]

    2010年度の主な研究業績

    論文
    1) Hao Lei, Yoichi Hoshi, Meihan Wang, Takayuki Uchida, Shinichi Kobayashi, Yutaka Sawada,” Electron BombardmentInduced Damage to Organic Emission Layer.” Japanese Journal of Applied Physics. (2010) in press.
    2) Yoichi Hoshi , Daiki Ishihara, Tetsuya Sakai, Osamu Kamiya and Hao Lei、“High Rate Reactive Deposition of TiO2 Films Using Two Sputtering Sources” Vacuum 84(2010)1377.1380

    学会発表

    国際会議

    1)Yoichi Hoshi, Yoji Yasuda, and Hidehiko Shimizu, “Origin of the Distribution of Electrical Properties of ITO Sputtered Films on Substrate.” AVS 57th International Symposium & Exhibition, F-ThA8 (2010年10月)

    2)Y. Yasuda*, K. Kamikuri, M. Tobisaka and Y. Hoshi 、“Study on low-temperature deposition of crystallized TiO2 thin films in high rate reactive sputtering process” TOEO-7, P106 (2011年3月)

    3)H.Ohkubo, Y.Seki, K.Lin, Y.Sawada, K.Sano, S.Seki, T.Uchida and Y.Hoshi、 “Zinc Oxide Films Prepared by Dip Coating Process Using Ethanol Solution” TOEO-7, 14p-P007(2011年3月)

    4)K.Sano, Y.Seki, Y.Sawada, S.Seki, H.Ohkubo, T.Suzuki, K.Lin, T.Uchida, and Y.Hoshi, “Aluminum-Doped Zinc Oxide Films Prepared by Spray Deposition in Inert Gas Atmosphere” TOEO-7, 14p-P067 (2011年3月)

    5)T.Uchida, S.Takasawa,, J.Tadano, K.Sakurai, T.Matsuzaki,T.Mizuno, S.Seki, Y.Hoshi and Y.Sawada “Characteristics of AZO/Metal/AZO Multilayer Transparent Conductive Films and Their Application in OLED” TOEO-7, 15p-P098


    国内学会
    1)飛坂真幸, 安田洋司,上栗賢人,星陽一「スパッタ形酸素ラジカル源を用いたTiO2膜の作製」 電気化学会2010年秋季大会、1I05 (9月)

    2)安田洋司,上栗賢人,飛坂真幸,星陽一「光触媒用TiO2薄膜の低温堆積法の検討」電気化学会2010年秋季大会、1I06 (9月)

    3)安田洋司,上栗賢人,飛坂真幸,星陽一「反応性スパッタ法とイオンアシスト蒸着法によるTiO2薄膜の低温結晶化促進の検討」 第71回秋季応用物理学会学術講演会、16a-NE-2、 2010年9月

    4)樫出淳1,名越克仁1,清水英彦1,岩野春男1,川上貴浩1,永田向太郎1,福嶋康夫1,星陽一2スパッタ法により室温で作製したAZO薄膜の特性の検討」第71回秋季応用物理学会学術講演会、17a-NE-8、2010年9月

    5)星陽一,植松紀幸,草木陽介,松崎龍矢,内田孝幸、「基板処理による有機EL用ITO電極膜の仕事関数の制御について」 第71回秋季応用物理学会学術講演会、16p-ZK-9、 2010年9月

    6)劉暢1,中村陽平1,松井博章1,清水英彦1,岩野春男1,福嶋康夫1,永田向太郎1,星 陽一2、「有機EL素子用ITO薄膜の検討」第58回応用物理学会関係連合講演会、27a-BF-3  (2011年3月)

    7)樫出淳1,名越克仁1,清水英彦1,岩野春男1,川上貴浩1,永田向太郎1,福嶋康夫1,星陽一2、「低電圧スパッタ法により作製したAZO薄膜の特性」 第58回応用物理学会関係連合講演会、27a-BF-5(2011年3月)

    8)安田洋司,上栗賢人,飛坂真幸,星陽一、「2スパッタ源反応性スパッタ法によるTiO2薄膜の低温結晶化促進法の検討」 第58回応用物理学会関係連合講演会、27p-BF-1  (2011年3月)

    9)植松紀行1,草木陽介1,内田孝幸1,清水英彦2星陽一1 「有機EL素子用ITO透明陽極膜の表面処理の検討」 第58回応用物理学会関係連合講演会、26p-BD-11 (2011年3月)

    2009年度の主な研究業績

    論文
    1) Tetsuya Sakai, Noriyuki Sato, Syohei Mochiduki, Daiki Ishihara, Gho Ikegaya, Naonori Osada, Koji Kobayashi, Takeshi Maeda and Yoichi Hoshi, “The relationships between the film structure and photocatalytic characteristics of TiO2 films deposited under oblique incidence by oxygen ion assisted reactive evaporation (OIARE) method”, Transactions of the Materials Research Society of Japan., Vol.34, No.1, 97-100 (2009)
    2) Y. Yasuda, N. Nishimiya, Y. Hoshi, and M.Suzuki, “Thermodynamic Temperature and Density of Ar(I) for 4S’[1/2]0 State in a Facing Target Sputtering System”, ACTA PYSICA POLONICA A, Vol.116(2009) 560-562
    3) Hao Lei,Keisuke Ichikawa, Yoichi Hoshi, Meihan Wang, Yutaka Sawada, Takayuki Uchida, “Low Damage Sputter Deposition of ITO Films on Organic Light Emitting Films” Transactions of the Materials Research Society of Japan., Vol.34,(2) (2009)321-324
    4) Hao Lei,Keisuke Ichikawa, Yoichi Hoshi*, Meihan Wang, Takayuki Uchida and Yutaka Sawada, “ Study of Deposition of ITO films on Organic Layer using Facing Target Sputtering in Ar and Kr gases.” Thin Solid Films, 516(2009)5860-5863
    5) M.H.Wang, T.Konya, M.Yahata, Y.Sawada, A.Kishi, T.Uchida, H.Lei, Y.Hoshi, L.X.Sun, “Thermal change of organic light emitting Alq3 thin films”, Journal of Thermal Analysis and Calorimetry, 2009, pp.117-122
    6) Tetsuya Sakai, Gho Ikegaya, Daiki Ishihara, Naonori Osada, Koji Kobayashi, Noriyuki Sato, Shohei Mochiduki, and Yoichi Hoshi, “Photocatalytic Characteristics and Structure of TiO2 Film Deposited by Oxygen-Ion-Assisted Reactive Evaporation at Low Temperature”, Japanese Journal of Applied Physics. Vol.49, No.1, (2010) 015701
    7) M.H.Wang, Y.Sawada, H.Lei, Y.Seki, Y.Hoshi, T.Uchida, T.Konya, A.Kishi, “Thermal crystallization kinetics and crystallite size distribution of amorphous ITO film deposited in the presence or absence of water vapor”, Thin Solid Films, 518, (11), (2010), pp. 2992-2995.

    学会発表

    国際会議

    1) Yoichi Hoshi , Daiki Ishihara, Tetsuya Sakai, Osamu Kamiya and Hao Lei、“High Rate Reactive Deposition of TiO2 Films by Using Two Sputtering Sources” Proceedings of the 10th International symposium on Sputtering and Plasma processes -ISSP2009- , pp. 475-478, 7月10日
    2) Hao Lei, Yoichi Hoshi, Daiki Ishihara, Meihan Wang, Yutaka Sawada, “Optical Emission Spectroscopy of Sputtering Type Oxygen Radical Source for the Deposition of TiO2 Films by Reactive Sputtering.” ICCE-17 OXIDE NANOCOMPOSITE SYMPOSIUM (2009)(HAWAII), 7月
    3) Yoichi Hoshi, Daiki Ishihara, Hao Lei, Tetsuya Sakai, “Micro-Structure of Photo-Catalytic TiO2 Films Deposited by Oxygen Ion Assist Reactive Evaporation Method and Reactive Sputtering.” AVS 56th International Symposium & Exhibition, SE1, November 8, 2009,(San Jose)


    国内学会

    研究会

    1) 伊藤、遠藤、以西、境、星、「RFマグネトロンスパッタ法によるTiO2薄膜の生成と光触媒特性」 電子情報通信学会、信学技報、CPM2009-12 (2009)5月
    2) 星陽一、雷浩、小林信一、内田孝幸 「有機EL素子用低ダメージスパッタ成膜法」 Sputtering &Plasma Processes Vol.24, No.3, 2009.pp.1-10、 7月24日 (日本真空協会)
    3) 星 陽一「低ダメージ低温スパッタ成膜技術について」日本真空協会 産業部会 2010年3月定例部会(240回)講演

    全国大会

    1) 雷  浩,星 陽一,王 美涵,澤田 豊,内田孝幸 「対向ターゲット式スパッタ法とマグネトロンスパッタ法による有機EL 膜上へのITO 成膜時に有機膜が受けるダメージの比較」、第70回 応用物理学会 学術講演会 10a-ZC-3(2009)9月10日(富山大学)
    2) 八幡政浩,高澤信平,内田孝幸,雷 浩,星 陽一 「透明有機EL素子におけるIZO / APC / IZO多層膜の検討」、第70回 応用物理学会 学術講演会 10a-ZC-2(2009)9月10日(富山大学)
    3) D. Ishihara, H. Lei and Y. Hoshi, “Changes in Microstructure of Reactive Sputtered TiO2 Films with Deposition Temperature.” 19th MRS-J Symposium, F-P15-M (2009)12月9日(横浜)
    4) N. Sato, S. Mochizuki, T. Sakai , H. Lei and Y. Hoshi, “Crystal Growth in TiO2 Films Induced by Oxygen Ion Bombardment during Reactive Evaporation at Room Temperature.” 19th MRS-J Symposium, F-P14-M (2009)12月9日(横浜)
    5) 石原 太樹,佐藤 紀幸,望月 翔平, 飛坂 真幸、橋本 一, Hao Lei,星 陽一、「TiO2膜作製用スパッタ型酸素ラジカル源」第57回応用物理学関係連合講演会(2010)3月17a-TQ-11
    6) 佐藤紀幸、石原太樹、望月翔平、飛坂真幸、上栗賢人、星陽一「酸素イオンアシスト反応性蒸着法によるTiO2 薄膜の結晶化促進法の検討」第57回応用物理学関係連合講演会(2010)3月 17a-TQ-10
    7)中村陽平,高橋沙季,劉  暢,清水英彦,岩野春男,永田向太郎,星 陽一,「UBMS 法及びBS 法によるITO 薄膜の低温結晶化の検討」, 第57 回応用物理学関係連合講演会(2010)3月 17a-TQ-4

    2008年度の主な研究業績

    論文

    1) Hao Lei, Keisuke Ichikawa, Meihan Wang, Yoichi Hoshi, Takayuki Uchida, and YutSawada, ”Investigation of Low ?Damage Sputter-Deposition of ITO Films on Organic Emission Layer.” IEIEC Tran. Electron., Vol.E.91-C, No.10, (2008) pp. 1658-1662
    2) Y.Hoshi, K.Yagi, E.Suzuki, H.Lei, and A.Sakai, “High rate deposition of SiO2 films using two sputtering sources.” IEIEC Tran. Electron., Vol.E.91-C, No.10, (2008) pp. 1644-1648
    3) T.Sakai, Y.Kuniyoshi, W. Aoki, S.Ezoe, T. Endo, and Y.Hoshi, “Photocatalytic characteristics TiO2 films deposited by oxygen plasma-assisted reactive evaporation metod”Japan. J.Appl.Phys., Vol.47, No.8, (2008) pp.6548-6553
    4) T.Sakai, Y.Kuniyoshi, W.Aoki, S.Ezoe, T.Endo, Y.Hoshi, “High rate deposdityion of photocatalytic Tio2 films by oxygen plasma assit reactive evaporation method” Thin Solid Films, 516(2008) pp.5860-5863
    5) Y.Onai, T.Uchida, Y.Kasahara, K.Ichikawa, and Y.Hoshi,"Transparent conductive film for top-emission organic light-emitting devices by low damage facing target sputtering” Thin Solid Films, 516(2008) pp.5911-5915
    6) S.Dangtip, Y.Hoshi, Y.Kasahara, Y.Onai, T.Osotchan, Y.Sawada and T.Uchida,” Study of low power deposition of ITO for top emission OLED with facing target and RFsputtering systems” J.Phys., Conference Series 100(2008)042011 pp.1-6


     

    学会発表

    1)境 哲也,佐藤紀幸,望月翔平,石原太樹,小林幸治,前田剛志,星 陽一、「酸素イオンアシスト反応性蒸着法による斜め入射TiO2薄膜の膜構造と光触媒特性の関係」、第69回応用物理学会学術講演会、3a-J-6(2008年9月2-5日)
    2)雷  浩,石原太樹,王 美涵,星 陽一,澤田 豊、「エミッションスペクトル観測によるTiO2 反応性スパッタ形酸素ラジカル源の検討」第69回応用物理学会学術講演会、3a-J-7(2008年9月)
    3)望月翔平,境 哲也,石原太樹,佐藤紀幸,小林幸治,前田剛志,星 陽一、「酸素イオンアシスト反応性蒸着法により作製したTiO2膜の膜厚依存性」 第69回応用物理学会学術講演会、3a-J-8(2008年9月)
    4)石原太樹,上田勝也,境 哲也,佐藤紀幸,望月翔平,星 陽一、「2スパッタ源高速反応性スパッタによるTiO2薄膜の構造と光触媒特性」  第69回応用物理学会学術講演会、3a-J-9(2008年9月)
    5)二木雅斗1,伊藤嘉宏1,高橋沙季1,清水英彦1,岩野春男1,川上貴浩1,星 陽一2、「電極-基板距離の変化によるITO薄膜作製時のイオン衝撃効果の検討」、 第69回応用物理学会学術講演会、4a-J-1(2008年9月)
    6)下村健晴1,本間拓也1,佐藤 薫1,清水英彦1,岩野春男1,星 陽一、「スパッタビーム堆積法により作製したAZO薄膜の特性の検討」 第69回応用物理学会学術講演会、4a-J-7(2008年9月)
    7)安田洋司,西宮信夫,鈴木正夫,星 陽一、「レーザ分光法による対向ターゲットプラズマ中のArI原子密度評価」 第69回応用物理学会学術講演会、4a-A-4(2008年9月)
    8)石原太樹、境哲也、佐藤紀幸、望月翔平、上田勝也、星陽一、「2スパッタ源高速反応性スパッタによるTiO2薄膜の構
       造と光触媒特性」第15回シンポジウム「光触媒反応の最近の展開」P-9、(2008年12月)
    9)佐藤紀幸、境哲也、、望月翔平、石原太樹、前田剛志、星陽一「酸素イオンアシスト反応性蒸着法により作製したTiO2
       薄膜の光触媒特性」第15回シンポジウム「光触媒反応の最近の展開」P-10、(2008年12月
    10)望月翔平、境哲也、佐藤紀幸、石原太樹、前田剛志、星陽一、「酸素イオンアシスト反応性蒸着法により作製した
       TiO2膜の膜厚依存性」第15回シンポジウム「光触媒反応の最近の展開」P-10、(2008年12月)
    11)Hao Leia,b,Keisuke Ichikawaa,b, Yoichi Hoshia,b*, Meihan Wanga,c, Yutaka Sawadaa,c Takayuki Uchidaa,d, “Low Damage Sputter Deposition of ITO Films on Organic Light Emitting Films” ZO-18, IUMRS-ICA2008(NAGOYA)(2008年12月)
    12)T.Sakai1, N.Sato1, S.Mochiduki1, K.Kobayashi2, T.Maeda2, Y.Hoshi1,2 “he relationships between the film structure and photocatalytic characteristics of TiO2 films deposited under oblique incidence by oxygen ion assisted reactive evaporation method” BP-13、IUMRS-ICA2008(NAGOYA)(2008年12月)

    2007年度の主な研究業績

    論文

    1) Takashi Takeuchi1, Koji Tsunekawa1,2, Young-suk Choi2, Yoshinori Nagamine2, David D. Djayaprawira2, Akira Genseki3, Yoichi Hoshi4, and Yoshitaka Kitamoto1 “Crystallization of Amorphous CoFeB Ferromagnetic Layers in CoFeB/MgO/CoFeB Magnetic Tunnel Junctions.” Japanese Journal of Applied Physics,Vol. 46, No. 25, 2007, pp. L623-L626
    2) O.Kamiya, Y.Onai, H.Kato, Y.Hoshi,”ITO films deposited by facing target sputtering”, J.Mater.Sci.*Mater Electron Vol.18, pp. S359-S362 August (2007)


     

    学会発表

    1) M. H. Wang, Y. Onai, Y. Hoshi, H. Lei , T. Kondo, T. Uchida, S. Singkarat, T. Kamwanna, S. Dangtip, S. Aukkaravittayapun, T. Nishide, S. Tokiwa, Y. Sawada, “Thermal change of amorphous indium tin oxide films sputter-deposited in water vapor atmosphere” 5th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics, P-33 (2007)5月
    2) Tetsuya Sakai, Yuji Kuniyoshi, Wataru Aoki, Sho Ezoe, Tatsuya Endo,Yoichi Hoshi “High-rate deposition of photocatalytic TiO2 films by oxygen plasma assist reactive evaporation method.” 5th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics, P-30,(2007)5月
    3) Yusuke Onai, Takayuki Uchida, Yoshihiro Kasahara, Keisuke Ichikawa, and Yoichi Hoshi, “Transparent conductive film for top-emission organic light emitting devices by low damage facing target sputtering.” 5th International Symposium on Transparent Oxide Thin Films for Electronics and Optics, P-37, (2007)5月
    4) Daisuke Sakurai and Yoichi Hoshi, “ITO films deposited at liquid nitrogen temperature by facing targets sputtering.” 2007 International Symposium on Organic and Inorganic Electronic Materials and Related Nanotechnologies EM-NANO2007(Nagano), P2-24 (2007)6月
    5) Yoichi Hoshi1, Kensuke Yagi, Eisuke Suzuki, and Akira Sakai,”High rate oblique deposition of SiO2 films deposited by using 2 sputtering sources.” 2007 International Symposium on Organic and Inorganic Electronic Materials and Related Nanotechnologies EM-NANO2007(Nagano), P2-25 (2007)6月
    6) 境 哲也,池ヶ谷 豪,長田尚徳,佐藤紀幸,望月翔平,星 陽一、「酸素プラズマアシスト反応性蒸着法による低温成膜TiO2薄膜の光触媒特性ならびにその構造」第68回応用物理学会学術講演会、5a-ZT-1(2007年)9月
    7) 境 哲也,石原大樹,池川 潤,市川 聖,星 陽一、「2スパッタ源反応性スパッタ法によるTiO2薄膜の高速成膜II」第68回応用物理学会学術講演会、5a-ZT-2(2007年)9月
    8) 市川圭亮,尾内優介,内田孝幸,星 陽一、「低ダメージスパッタ法による有機EL膜上へのITO膜の成膜」第68回応用物理学会学術講演会5p-ZM-3(2007年)9月
    9) 境 哲也・神谷 攻・○星 陽一(東京工芸大)・清水英彦(新大)「2スパッタ源反応性スパッタ法によるTiO2薄膜の高速堆積」電子情報通信学会技術研究報告CPM2007-109
    10) Osamu Kamiya, Tetsuya Sakai and Yoichi Hoshi, “ High rate deposition of TiO2 films by using two sputtering sources.” AVS 54th International Symposium, SE-WeM12
    11) 石原太樹,池川 潤,市川 聖,境 哲也,Wattana Samanjit,星 陽一「2スパッタ源高速反応性スパッタによるTiO2薄膜の高速成膜III」第55回応用物理学関係連合講演会、27a-L-7
    12) ○本間拓也1,東出陽幸2,久保田圭亮3,下村健晴4,清水英彦5,丸山武男6,岩野春男7,星 陽一8「スパッタビーム堆積法及びマグネトロンスパッタ法によるZnO薄膜の作製」第55回応用物理学関係連合講演会、27p-L-18
    13) 雷  浩,市川圭亮,王 美涵,○星 陽一,内田孝幸,澤田 豊 「電子衝撃による有機EL層へのダメージの検討」第55回応用物理学関係連合講演会、30a-ZA-11
    14) 市川圭亮,雷  浩,王 美涵,内田孝幸,澤田 豊,星 陽一「Krガスを用いた有機EL膜上へのITO薄膜の低ダメージスパッタ成膜」第55回応用物理学関係連合講演会、30a-ZA-12

    2006年度以前の主な研究業績

    論文(以下、2006年以前より抜粋)

    1)Hideo Iwase, Youichi Hoshi, Makoto Kameyama, “Electrical properties of indium-tin oxide films deposited on nonheated substarte using a palanar-magnetron sputtering system and a facing target sputtering system.” J.Vac.Sci. Technol., A24(1),Jan/Feb (2006) pp.65-69
    2)Yoichi Hoshi and Tomoki Takahashi, “High rate sputter-deposition of TiO2 films using oxide target.” IEICE Trans. Electron., Vol.87-C, No.2(2004) pp.227-231
    3)Kentaro Funatsu, Hiro-omi Kato, and Yoichi Hoshi,”Suppression of substrate heating in the sputter-deposition of ITO films.” Electrochemistry 72, N.6, (2004)418-820
    4)Yoichi Hoshi, Hiro-omi Kato, Kentaro Funatsu, “ Structure and electrical properties of ITO thin films deposited at high rate by facing target sputtering.” Thin Solid Films, 445(2003) 245-250
    5)Tomoki Takahashi, Takayuki Nakano, Yoichi Hoshi and Hidehiko Shimizu, “High rate deposition of TiO2 thin films using pulse sputtering technique.” Transaction of the Material Research Society of Japan, 28[4] pp.1129-1132 (2003)
    6)Yoichi Hoshi and Takakazu Kiyomira : ITO thin films deposited at a low temperature by using a kinetic energy controlled sputter-deposition technique., Thin Solid Films, 411 (2002) pp. 36-41
    7)Y. Hoshi : New sputter-deposition processes for the formation of thin films with desired structure for magnetic recording, J.Mag.Mag.Mat., 235 (2001), 347-353
    8)H. Shimizu,and Y.Hoshi: Alternate layer deposition by sputtering for the formation of c-axis oriented hexagonal barium ferrite thin films, Ferrites: Proceedings of the 8th International Conference on Ferrites, (2000), pp.684-686
    9)加藤博臣、星陽一、「ITO透明導電膜の低温成膜における水蒸気の効果」電子情報通信学会論文誌C、Vol.J87-C, No.1(2004)pp.160-165
    10)清水、星、川畑:偏光解析法を用いたAgスパッタ薄膜の初期成長過程の考察、電気学会論文誌A、Vol.122-A、No.8、(2002.8)755-760
    11)清水英彦, 星陽一:(111)配向ZnFe2O4下地膜上に堆積したBaM薄膜の微細構造、日本応用磁気学会誌、24、pp.523-526 (2000)
                                               他多数

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